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有光刻膠覆蓋硅片的三個生產(chǎn)區(qū)域分別為光刻區(qū)、刻蝕區(qū)和擴散區(qū)。
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光刻的本質(zhì)是把電路結(jié)構復制到以后要進行刻蝕和離子注入的硅片上。
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芯片上的物理尺寸特征被稱為關鍵尺寸,即CD。
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