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雜質(zhì)在硅晶體中的擴(kuò)散機(jī)制主要有兩種,分別是()擴(kuò)散和()擴(kuò)散。雜質(zhì)只有在成為硅晶格結(jié)構(gòu)的一部分,即(),才有助于形成半導(dǎo)體硅。
答案:
間隙式擴(kuò)散機(jī)制;替代式擴(kuò)散機(jī)制;激活雜質(zhì)后
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填空題
擴(kuò)散是物質(zhì)的一個(gè)基本性質(zhì),分為三種形態(tài)()擴(kuò)散、()擴(kuò)散和()擴(kuò)散。
答案:
氣相;液相;固相
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填空題
刻蝕剖面指的是(),有兩種基本的刻蝕剖面()刻蝕剖面和()刻蝕剖面。
答案:
被刻蝕圖形的側(cè)壁形狀;各向同性;各向異性
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