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填空題

目前常用的CVD系統(tǒng)有（）、（）和（）。

答案： APCVD；LPCVD；PECVD

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立式爐的工藝腔或爐管是對(duì)硅片加熱的場(chǎng)所，它由垂直的（）、（）和（）組成。

答案：石英工藝腔；加熱器；石英舟

硅片上的氧化物主要通過（）和（）的方法產(chǎn)生，由于硅片表面非常平整，使得產(chǎn)生的氧化物主要為層狀結(jié)構(gòu)，所以又稱為（）。

答案：熱生長(zhǎng)；淀積；薄膜