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填空題

工業(yè)中單晶硅的制備方法主要有（）和區(qū)熔法（FZ法）

答案：直拉單晶法（CZ法或切克勞斯基法）

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晶體硅片蝕刻清洗的生產(chǎn)工藝有酸性蝕刻和堿性蝕刻兩種，其中酸性蝕刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸當緩沖劑，一般去除約10-20µm厚的表面層。

答案：氫氟酸

目前多晶硅原料的制備方法主要有三氯氫硅法（改良西門子法）和（）兩種方法。

答案：硅烷法

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