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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】為什么XPS譜圖低結(jié)合能端的背底電子少，高結(jié)合能端的背底電子多？
答案：
XPS的化學(xué)位移和核磁共振的化學(xué)位移有何不同？背底電子是在逃逸的路徑上發(fā)生能量損失的光電子。由于來(lái)自樣品深層的光電子在逃...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述XPS法的基本原理，XPS分析金屬材料、無(wú)機(jī)材料或高分子材料樣品，可得到信息的樣品表面深度分別是多少？
答案：
XPS是用單色X射線照射樣品，使其中原子殼層中的電子受激發(fā)逃逸形成自由的光電子，通過(guò)測(cè)試這些電子的動(dòng)能來(lái)計(jì)算它們?cè)谠又?..
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述DMA的基本原理，從E′和tanδ與溫度之間的關(guān)系曲線上分別能獲得哪些信息？
答案：
DMA是在程序控制溫度的情況下，測(cè)量高分子材料在一定頻率振動(dòng)負(fù)荷下的動(dòng)態(tài)模量（E′和E″）和力學(xué)損耗（tanδ）與溫度的...
