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問答題
【簡答題】試說明MOS工藝中存在的自對準(zhǔn)結(jié)構(gòu)及他們的主要優(yōu)點。
答案：
源漏的自對準(zhǔn)注入（LDD）：在硅柵工藝中，利用多晶硅柵的掩蔽作用自對準(zhǔn)地進行源漏區(qū)的雜質(zhì)注入，并同時完成多晶硅柵的雜質(zhì)注...
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問答題
【簡答題】什么是硅柵自對準(zhǔn)技術(shù)？簡單說明其主要制作步驟和主要優(yōu)點。
答案：
是一種在晶圓片上用單個掩模形成不同區(qū)域的的多層結(jié)構(gòu)的技術(shù)，是一種可將兩次MASK步驟合為一次，讓多個不同區(qū)域一次成形的工...
問答題
【簡答題】試說明在CMOS工藝中主要采用的器件隔離技術(shù)，并說明每種工藝技術(shù)的主要特點和適用范圍。
答案：
自隔離：由于MOS晶體管之間不共享電器件，所以器件本身就是被pn結(jié)隔離，又稱自隔離（Self-isolated）。MOS...
