下圖為一個(gè)典型的離子注入系統(tǒng)。(1)給出1~6數(shù)字標(biāo)識(shí)部分的名稱,簡(jiǎn)述其作用。(2)闡述部件2的工作原理。
Si-SiO2界面電荷有哪幾種?簡(jiǎn)述其來(lái)源及處理辦法。
一片硅片由0.3um厚的SiO2薄膜覆蓋。所需數(shù)據(jù)見(jiàn)下表,玻爾茲曼常數(shù)k=1.38×10-23。(1)在1200℃下,采用H2O氧化,使厚度增加0.5um需要多少時(shí)間?。(2)在1200℃下,采用干氧氧化,增加同樣的厚度需要多少時(shí)間?