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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)對(duì)缺陷磁痕顯示記錄是如何要求的？
答案：
缺陷磁痕的顯示記錄可采用照相、錄像和可剝性塑料薄膜等方式記錄，同時(shí)應(yīng)用草圖標(biāo)示。
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】JB/T4730—2005標(biāo)準(zhǔn)關(guān)于缺陷磁痕的觀(guān)察有哪些要求？
答案：
1、磁痕的觀(guān)察應(yīng)在磁痕形成后立即進(jìn)行。
2、非熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，磁痕的評(píng)定應(yīng)在可見(jiàn)光下進(jìn)行，通常工件被檢表面可見(jiàn)...
2、非熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，磁痕的評(píng)定應(yīng)在可見(jiàn)光下進(jìn)行，通常工件被檢表面可見(jiàn)...
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】8JB/T4730—2005標(biāo)準(zhǔn)對(duì)磁軛提升力指標(biāo)有何規(guī)定？影響交叉磁軛磁粉探傷儀提升力的主要因素有哪些？
答案：
JB/T4730—2005標(biāo)準(zhǔn)對(duì)磁軛提升力指標(biāo)的規(guī)定為：當(dāng)使用磁軛最大間距時(shí)，交流電磁軛至少應(yīng)有44N的提升...
