A.成像參數(shù)多 B.射線量大 C.成像過(guò)程復(fù)雜 D.脈沖序列多 E.成像方位多
A.會(huì)遺漏小病變 B.可產(chǎn)生假像 C.改變選層位置可消除此效應(yīng) D.增加掃描層厚可消除此效應(yīng) E.對(duì)可疑部位邊緣作垂直方向掃描可消除此效應(yīng)
A.使用預(yù)飽和技術(shù) B.采用呼吸門(mén)控技術(shù) C.改變TE值 D.采用快速掃描序列屏氣掃描 E.增加采集次數(shù)