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離子注入的能量遠(yuǎn)低于離子刻蝕和離子濺射沉積。
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離子濺射鍍膜與離子鍍過程原理是一樣的。
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離子的質(zhì)量遠(yuǎn)大于電子,故離子束加工的生產(chǎn)率比電子束高,但表面粗糙度稍差。
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