判斷題

二氧化硅膜能有效的對擴散雜質起掩蔽作用的基本條件是雜質在硅中的擴散系數大于在二氧化硅中的擴散系數。

答案: 正確
題目列表

你可能感興趣的試題

判斷題

在常規(guī)熱氧化工藝中干氧氧化的速度最快。

答案: 錯誤
微信掃碼免費搜題